R&D자료

[플라즈마 표면 처리 장치 개요]

가스에 에너지를 주어 플라즈마 상태로 만들고, 이 이온화된 가스 입자와 라디칼이 물질 표면과 반응하여 표면의 화학적 또는 물리적 특성을 변화시키는 것

친수성/소수성 변화, 접착력 및 내구성 증대, 내열성, 내마찰성, 내식성 향상, 살균 등 다양한 기능을 부여할 수 있음.

대기압 플라스마 전처리는 플라스틱, 금속(예: 알루미늄), 유리, 재생 재료 및 복합 재료의 클리닝, 활성화 또는 코팅을 위한 가장 효율적인 플라스마 공정 중 하나

플라즈마 물질 표면처리 메카니즘

[플라즈마 표면 처리 장치 구성]

진공 챔버: 플라즈마 발생 및 처리 공정이 진행되는 공간.

가스 공급 장치: 플라즈마 발생에 필요한 가스를 공급하는 장치.

전력 공급 장치: 플라즈마 발생에 필요한 에너지를 공급하는 장치.

플라즈마 발생 장치: 전력 공급 장치로부터 공급받은 에너지를 이용하여 가스를 플라즈마 상태로 변환하는 장치.

표면 처리 시스템: 처리 대상 물체를 챔버 내부에 위치시키고 플라즈마와의 접촉을 제어하는 시스템.

제어 시스템: 플라즈마 발생 조건, 처리 시간, 온도 등을 제어하는 시스템. 

[플라즈마 표면 처리의 활용 분야]

인쇄전처리, 본딩전처리, 도장 전처리, 코팅전처리 등

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